南京電子廠廢氣處理設備工藝

 電子工業從產品來分的話，自上而下可以分為電子整機產品和電子基礎產品，還有電子材料等三個部分，其中包含有：光電器件、半導體器件、電子元件及電子終端產品等方面。電子廠廢氣的主要來源是對電子產品的表面涂層工藝環節所用溶劑型涂料和清洗工藝環節所用有機溶劑所致。電子工業廢氣VOCS常見的種類有：異丙醇、丁酮、甲苯、醋酸丁酯、甲醇、乙醇、丙酮、二甲苯、丙二醇單甲醚、苯乙烯、乙酸乙酯、正丁醇、甲基異丁基甲酮、二氯甲烷、環已酮、乙苯、正庚烷、甲氫呋喃、三氯乙烯和氯方等。
南京電子廠廢氣處理設備工藝的幾種方法進行簡單介紹一下：

1、焚燒法（RTO）：能耗大、運行成本高，適合處理高濃度、小風量有機廢氣；

2、吸附法（活性炭）：投資小、工藝簡單，易飽和，需要與脫附、冷凝、焚燒等方法聯用才能滿足排放要求；

3、冷凝法：與吸收、吸附等方法聯用，將有機廢氣吸附濃縮后冷凝、分離，回收其中有價值的有機物。此法適用濃度高、風量小的有機廢氣處理場合。缺點是：投資、能耗、運行費用高，冷凝回收物提純處理后，仍有相當部分液態廢棄物需要進一步處理。該方案與生產設備、生產工藝存在匹配關系，偏離這種匹配關系將提高治理成本，影響治理效果；

4、光催化氧化法：采用C波段（僅次于切割不銹鋼的激光，強于氬弧焊光源的數十倍強度）在設備內，強裂解惡臭物質分子鏈，改變物質結構，將高分子污染物質，裂解、氧化成為低分子無害物質，如水和二氧化碳等；

5、高溫等離子凈化法：經過壓縮、高壓聚能放電成為高溫等離子體。反應器壓力增高，氣體體積急劇膨脹，在高溫、高電勢的雙重作用下，有機廢氣瞬間(萬分之5秒)成為高溫等離子體，其中長分子鏈裂解成單質原子，有機物凈化率在90%左右。